RECENT PATENTS ON NANOTECHNOLOGY
SCIE
ISSN:1872-2105
e-ISSN:2212-4020
详情
简称:
RECENT PAT NANOTECH
出版商:
BENTHAM SCIENCE PUBL LTD
JCI:
0.24
周期:
Quarterly
影响指数:
3.000-3.200
国家:
U ARAB EMIRATES
年发文量:
28
国人占比
22.35%
学科:
MATERIALS SCIENCE
是否在库:
是
中科院预警:
无
国内分区（升级版）:
—
大类:
材料科学 4区
小类:
-
H指数:
26
自引率
10.00%
是否OA
NO
Cite Score:
2.9
SNIP
0.477
SJR:
0.275
Scopus学科:
General Engineering
分区：Q1
排名：68/299
百分位：77%
5年影响指数趋势图
1.952
5年前
2.321
4年前
2.000
3年前
2.000
2年前
3.100
近1年