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AFTERALL

AFTERALL

A&HCI
ISSN:1465-4253
e-ISSN:2156-4914

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出版商:
UNIV CHICAGO PRESS
语言:
English
JCI:
0.08
影响指数:
0.1
年发文量:
27.33
国人占比
0.00%
学科:
Art
OA:
NO
是否在库:
分区:
艺术学 4区
顶刊:
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