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JOURNAL DETAIL
INTERNATIONAL JOURNAL OF APPLIED ELECTROMAGNETICS AND MECHANICS

INTERNATIONAL JOURNAL OF APPLIED ELECTROMAGNETICS AND MECHANICS

SCIE
ISSN:1383-5416
e-ISSN:1875-8800

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简称:
INT J APPL ELECTROM
出版商:
IOS PRESS
JCI:
0.18
周期:
Monthly
影响指数:
0.600-0.800
国家:
NETHERLANDS
年发文量:
182
国人占比
64.22%
学科:
ENGINEERING
是否在库:
中科院预警:
国内分区(升级版):
大类:
工程技术 4区
小类:
-
H指数:
27
自引率
18.18%
是否OA
NO
Cite Score:
1.4
SNIP
0.633
SJR:
0.282
Scopus学科:
Mechanics of Materials
分区:Q3
排名:237/367
百分位:35%

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