PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING
SCIE
ISSN:0272-4324
e-ISSN:1572-8986
详情
简称:
PLASMA CHEM PLASMA P
出版商:
SPRINGER
JCI:
0.59
周期:
Quarterly
影响指数:
2.400-2.600
国家:
UNITED STATES
年发文量:
94
国人占比
23.32%
学科:
CHEMISTRY
是否在库:
是
中科院预警:
无
国内分区（升级版）:
—
大类:
物理与天体物理 3区
小类:
-
H指数:
61
自引率
19.23%
是否OA
NO
Cite Score:
5.4
SNIP
1.231
SJR:
0.59
Scopus学科:
Surfaces, Coatings and Films
分区：Q1
排名：20/120
百分位：83%
5年影响指数趋势图
3.148
5年前
3.337
4年前
3.600
3年前
2.600
2年前
2.500
近1年