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JOURNAL DETAIL
TOPOLOGY AND ITS APPLICATIONS

TOPOLOGY AND ITS APPLICATIONS

SCIE
ISSN:0166-8641
e-ISSN:1879-3207

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简称:
TOPOL APPL
出版商:
ELSEVIER
JCI:
0.37
周期:
Quarterly
影响指数:
0.400-0.600
国家:
NETHERLANDS
年发文量:
331
国人占比
16.50%
学科:
MATHEMATICS
是否在库:
中科院预警:
国内分区(升级版):
大类:
数学 4区
小类:
-
H指数:
44
自引率
33.33%
是否OA
NO
Cite Score:
0.9
SNIP
1.144
SJR:
0.594
Scopus学科:
Geometry and Topology
分区:Q3
排名:53/84
百分位:37%

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